https://arxiv.org/abs/2308.15321代码连接：
https://github.com/forever208/ADM-ES摘要
扩散模型在图像生成方面非常成功，但其曝光偏差（exposure bias）的问题（训练和采样过程的输入存在偏差）缺乏深入的探索。在本文中，我们通过首先对真实的采样分布进行分析，并找出了暴露偏差问题的根本原因。此外，我们讨论了该问题一些潜在解决方案，并且提出了一种简单且高效的无需训练的方法，称为 Epsilon Scaling（ES），来减轻暴露偏差。
实验表明，ES 显式地让采样轨迹向训练轨迹（训练得到的向量场）靠近，从而减轻训练和采样之间的输入不匹配。我们在各种扩散模型框架（ADM、DDIM、EDM、LDM、DiT、PFGM++）上验证了 ES 的有效性。比如将 ES 应用于 ADM 上，我们得到了一个 SOTA 的随机采样器：在 100 步无条件生成下，在 CIFAR-10 上获得了 2.17 FID.扩散模型中的曝光偏差
与自回归的文本生成类似，扩散模型也存在曝光偏差问题。即训练阶段喂给网络的是真值 ，而采样阶段喂给网络的是上一时刻网络预测的 ，由于网络在训练阶段从来没有看过 ，因此无法学习准确的 score 或 epsilon。
我们显式地建模真实的采样分布以比较 和 的差异。以 DPPM 为例，理论上的采样分布是基于 posterior（下图右式）得到的，其中 是指神经网络通过输入 预测的 。
但上式仅在 时成立，而神经网络对于 的预测始终存在误差，因此真实的采样分布需要考虑网络在每一步采样中关于 的预测误差。以 Analytic-DPM 为例，假设该预测误差为高斯分布：
我们最终能得到真实的采样分布 ，将其与训练过程中的条件 分布做比较，我们得到表 1 的结果，显然采样阶段网络看到的 具有更大的方差。上述是对于单步采样的解析，迭代后可得到多步采样的真实分布，此外 DDIM 也具有类似的结果（详见论文）。我们对表 1 两个分布的方差之差（方差误差）进行可视化，得到了图 1 的结果，可以看到误差会逐步积累。
曝光偏差的解决方案
我们现在谈论曝光偏差的解决方案：
- 最直接的方式就是训练一个更准确的网络，参考 EDM 的调参；
- 通过数据扩增训练一个更稠密的向量场，如 EDM 的几何扩增，DDPM-IP 的输入扰动；
- 采用 PFGM 生成框架，其框架对于预测误差有更强的鲁棒性。
但上述方法都需要重新训练一个模型，而我们下文提出方案是针对采样过程，并与上述方案兼容。
Epsilon Scaling
通过观察网络输出的 的模长，我们可以看出训练和采样过程存在偏差，且该偏差会逐步累计。我们因此提出 Epsilon Scaling 以缩放采样过程中的 以使其向训练过程中的 靠拢，即让下图绿色轨迹向红色轨迹靠拢。
因此，我们的采样方案仅需在原有采样函数上加一个缩放因子 ，基于误差传递的分析，我们最后得到了 的一次函数缩放策略，并且发现 k 在实际中接近于0，因此简单起见推荐 的常数缩放策略。ES 的实验结果
ADM-ES 优于其他 stochastic samplers：
ES 改善采样轨迹
我们可以看到 ES 将原有的采样轨迹（绿色线）推到了蓝色线，后者更靠近训练阶段得到的向量场（红色线）。通过对每一步采样设置 random seed，我们从下图发现 ADM（第一行） 和 ADM-ES（第二行）生成得到的样本点相似，但是后者的生成质量更高。
文章的最后
如果你有从头训练一个扩散模型的需求，推荐一下我们 ICML 2023 的文章，提出了一行代码提升扩散模型生成质量和训练速度的方法，改论文从训练角度给出了曝光偏差的多种方案。
https://arxiv.org/abs/2301.11706代码链接：
https://github.com/forever208/DDPM-IP
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